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標題: 不用 EUV 上 5 nm [打印本頁]

作者: usei    時間: 2021-10-26 11:50     標題: 不用 EUV 上 5 nm

https://technews.tw/2021/10/22/c ... to-5nm-without-euv/

NAND 零組件因採取 3D 立體堆疊結構,更適應 NIL 技術製程。


NAND 不是不用細製程嗎 ?  細製程寫入次數太少 , 還是想利用細製程整番 SLC ?
細製程如果能提高 8 倍以上密度 , 會比大製程 TLC 好
作者: 高登阿伯    時間: 2021-10-26 23:30

NAND 零組件因採取 3D 立體堆疊結構,更適應 NIL 技術製程。


NAND 不是不用細製程嗎 ?  細製程寫入次數 ...
usei 發表於 2021-10-26 11:50


目前正在進行 15 奈米以下研發,預計 2025 年達成。

即係有排未成事,遠水不能救近火,大家可以繼續捱炒價。
作者: rabbit82047    時間: 2021-10-27 10:26

NAND 係向高容量發展, 一定唔會行返去 TLC/MLC, 最多 TLC/QLC 行 TLC 模式
作者: usei    時間: 2021-10-27 11:48

回覆 3# rabbit82047

細製程 TLC 因為寫入次數太少 , 才轉大製程 3D

細製程 nand 用 SLC / MLC 才合理
作者: skywalker167    時間: 2021-10-31 10:11

本帖最後由 skywalker167 於 2024-2-1 08:15 編輯

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