標題: EUV光刻新技術,耗電量降至1/10 [打印本頁]
作者: usei 時間: 2024-8-22 16:52 標題: EUV光刻新技術,耗電量降至1/10
https://zh.cn.nikkei.com/industr ... 08-13-08-49-05.html
EUV的能量每經一次反射就會衰減40%,因此最終僅有1%左右的能量能夠到達晶圓。而新技術只用4個反光鏡,有10%以上的能量能夠到達晶圓。以EUV光源為中心,整體耗電量可減至原來的約十分之一。設備的結構也可大幅簡化,因此當前估計需要200億日元左右的設備引入成本也幾乎可以減半。
EUV 製程有望降低成本
作者: benchan2541 時間: 2024-8-22 19:38
本帖最後由 benchan2541 於 2024-8-22 19:41 編輯
聽住先,
不過電池技術沒進步.
作者: MirageKnight 時間: 2024-8-22 22:30
人工, 開發費無減啊...
作者: kwliu 時間: 2024-8-23 08:50
關電池乜事?
作者: allen05073003 時間: 2024-8-23 10:24
要教過晒D鏡,唔好玩啦。新機先有機會用
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作者: usei 時間: 2024-8-23 12:15
回覆 5# allen05073003
EUV 仍會有新機繼續生產
新設計是可以考慮
作者: ckyuen2 時間: 2024-8-23 13:22
要用平價電都可以起個核電廠搞掂
反而設備成本先係重點
機又平電又平就可以直接淘汰啲舊機
作者: s84292 時間: 2024-8-23 15:35
本帖最後由 s84292 於 2024-8-23 07:37 編輯
咁就肯定係比新機啦,舊機冇野都唔會郁佢
升級要停產,計落仲貴過買新
原廠都一定係想賣新機比你多
DUV 玩左20年仲係第一線,閒閒地仲要玩多20年
EUV大把新機要出