IBM宣佈22nm製造工藝
驅動之家[原創] 作者:Skyangeles 編輯:Skyangeles 2008-09-19 16:29:54
IBM日前宣佈了能夠支持22nm製程的全套半導體光刻製造工藝解決方案,能夠在繼續使用當前光刻技術的前提下,滿足今起直至2011年前後半導體工業對製程進化的工藝需求。
IBM的新技術成為「運算微縮」(Computation Scaling,CS)技術,能夠在不提升光刻激光波長的前提下提升製程。iBM半導體研發中心副總裁Gary Patton,傳統的微縮投影技術過於依賴設備的光學分辨率,而「運算微縮」技術則可以在不使用EUV極紫外等超短波長技術,繼續採用當前193nm波長光刻設備的前提下,滿足22nm製程的工藝需求。
IBM已經為22nm製程開發出了整套生產設備及工藝。上個月,他們曾經宣佈造出了首顆22nm SRAM顆粒,相信就是採用的此套方案。而此次宣佈整套解決方案的開發完成,則應當是意味著他們已經準備好了將該系統出售給其他半導體廠商。
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