EUV光刻新技術,耗電量降至1/10

https://zh.cn.nikkei.com/industr ... 08-13-08-49-05.html

EUV的能量每經一次反射就會衰減40%,因此最終僅有1%左右的能量能夠到達晶圓。而新技術只用4個反光鏡,有10%以上的能量能夠到達晶圓。以EUV光源為中心,整體耗電量可減至原來的約十分之一。設備的結構也可大幅簡化,因此當前估計需要200億日元左右的設備引入成本也幾乎可以減半。


EUV 製程有望降低成本

本帖最後由 benchan2541 於 2024-8-22 19:41 編輯

聽住先,
不過電池技術沒進步.

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人工, 開發費無減啊...

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聽住先,
不過電池技術沒進步.
benchan2541 發表於 2024-8-22 19:38


關電池乜事?

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要教過晒D鏡,唔好玩啦。新機先有機會用

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回覆 5# allen05073003

EUV 仍會有新機繼續生產
新設計是可以考慮

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要用平價電都可以起個核電廠搞掂
反而設備成本先係重點
機又平電又平就可以直接淘汰啲舊機

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本帖最後由 s84292 於 2024-8-23 07:37 編輯
要教過晒D鏡,唔好玩啦。新機先有機會用

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allen05073003 發表於 2024-8-23 02:24


咁就肯定係比新機啦,舊機冇野都唔會郁佢
升級要停產,計落仲貴過買新
原廠都一定係想賣新機比你多

DUV 玩左20年仲係第一線,閒閒地仲要玩多20年
EUV大把新機要出

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