華為突圍 秀EUV光刻技術

Casper_HK

面對晶片卡脖子問題，華為近期公開新極紫外光（EUV）光刻新技術專利。華為專利《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》，而這種方法能夠解決相干光因形成固定的干涉圖樣而無法勻光的問題，在極紫外光的光刻裝置基礎上進行了優化，進而達到勻光的目的。

外界分析這是華為徹底放棄幻想，並釋出親自下場投入光刻機研發的訊號。

光刻機是晶片製造不可或缺的關鍵設備，而光刻機技術最先進的廠商是荷蘭商艾司摩爾（ASML），其研發製造DUV光刻機和EUV光刻機，前者主要是生產製造28奈米以下低階製程的晶片，後者主要製造高階製程7奈米以下晶片。

EUV光刻機是掌握未來半導體先進製程的發展方向和制高點。EUV光刻機採用10-14奈米極紫外光做光源的光刻技術設備，是目前市場上技術水平最高的光刻機產品。但由於美國禁令，大陸廠商僅能購買DUV光刻機，但無法取得EUV光刻機。

發佈日期：2022-11-21
新聞來源連結：華為突圍 秀EUV光刻技術 - 聯合新聞網
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火雲耶神

支持華為

raywan

申請左一個EUV專利就想造光刻機
等睇華為出EUV光刻機不是卡脖子問題,而是等待太久脖子增長的問題

ricky1992

有行動都係件好事

Baggio3go

華為最出名既就係有全世界最多既5g 專利技術
但係就出唔到5g 手機

kofz

面對晶片卡脖子問題，華為近期公開新極紫外光（EUV）光刻新技術專利。華為專利《反射鏡、光刻裝置及其控制 ...
Casper_HK 發表於 2022-11-21 22:54

唔知要燒幾多錢先可以商品化？

起碼千億人仔。。。。

ASML既成功

其實係好多國家科技合作既成果

via HKEPC IR Extreme 4.2.3 - Android(4.2.0)

孤兒仔

首先佢去邊處拿到部 euv 光刻機份研究
a99 發表於 23/11/2022 09:00 AM

呢個區特定類型千篇一律嘅帖有邊單係成真過？
黑色幽默帖....笑一笑世界更美妙，月吹幾單無一單派彩

rabbit82047

一個專利到EUV仲差好步, 但補充專利儲備唔係壞事
當EUV必需用到中國專利, 到時雖然可以繼續禁, 但就會進入怪圈