【超落後 ... 😵‍💫】外媒報導，近日荷蘭國會炮轟 ASML，質疑 ASML 向中國出口光刻機可能被用於軍事用途，從而影響國家安全。ASML 執行長 Peter Wennink 接受訪問時表示，賣給中國的光刻機都是 DUV 舊技術，已落後 8 代、技術差距超過 10 年，根本無法生產先進晶片。

 

Peter Wennink 接受《Bloomberg》訪問時指出，目前 ASML 對中國出口的設備，與最新的 High-NA EUV 高數值孔徑光刻技術相比，整整落後了 8 代。究竟有多落後？這些出口的 DUV 光刻機，其技術水準相當於 2013、2014 年銷往西方客戶的產品，技術差距超過 10 年。

 

究竟有多落後呢？目前向中國出貨的 DUV 光刻機解析度只有約 38nm，而現今 High-NA EUV 理論上可把解析度由約 13.5nm 降至 8nm（甚至可達 5nm），根本不能相提並論。

 

Peter Wennink 坦言，如果西方過度收緊限制，把中國逼至絕境，迫使中方別無選擇、只能徹底擺脫對西方技術的依賴，反而會倒逼中國決心自主研發替代產品。美國禁止出口 AI 晶片到中國，助長了華為、寒武紀等中國 AI 晶片大廠，就是最好的例子。從長遠來看，這將導致西方徹底失去這個龐大市場。

 

Peter Wennink 認為，不可能一直打壓中國。究竟我們要把中國的技術差距拉大到何種程度？是讓中國落後 5 年、10 年，還是 15 年？中國已在很多領域實現自主研發，假以時日，中國甚至可能反過來向我們出口這些產品。

 

 

 

資料來源:

 

• ASML CEO Sees AI Spending Arms Race